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为什么说金刚石热沉片是芯片封装的首选?

时间:2023-08-18浏览次数:694

随着电子封装技术逐渐向着小型化、高密度、多功能和高可靠性方向发展,电子系统的功率密度随之增加,散热问题越来越严重。对于电子器件而言,通常温度每升高10°C,器件有效寿命就降低30%~50%。因此,选用合适的封装材料与工艺、提高器件散热能力就成为发展电子器件的技术瓶颈。其中,基板材料的选用是关键环节,直接影响到器件成本、性能与可靠性。常用的基板材料主要包括塑料基板、金属基板、陶瓷基板和复合基板四大类。金刚石热沉片热导率1000-2200W/(m.k),是功率电子绝佳的封装材料。


研究表明,采用MPCVD 制备的金刚石薄膜做过渡热沉,与传统铜热沉相比,半导体激光器的光功率输出提升 25%,热阻减低 45%以上,散热优势明显。


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对于电子产品而言,整体的可靠性取决于芯片上最热的区域而不是芯片的平均温度。金刚石不导电,却可以通过声子振动(晶格振动)散热,所以是材料界热扩散率最高的。尤其值得一提的是,金刚石热沉片不能容忍温度梯度,会实时均温(消除温度差异)。换言之,芯片焊在金刚石热沉片后其内的热点难以存在。芯片的性能其实不是由平均温度决定的,而是由最高温处的极小热点所限制。 热点面积可以只有数十个原子,但其振动频率代表的温度却数倍于平均温度。所以金刚石热沉片可提高芯片的功率或速度,即使平均温度升高也不损及芯片的性能。例如以金刚石消除热点,CPU的频率可以大幅提高,超频计算可容许芯片的平均温度提高而维持其可靠度。功率芯片若焊在大而厚的金刚石覆铜散热,功率可能加倍。


金刚石在所有已知物质中室温下具有最高的热导率,化合积电高质量金刚石热沉片热导率高达1000-2200W/(m.k),其热导率值是铜的3-5倍。化合积电推出TC1200、TC1500、TC1800、TC2000四款标准产品,并可根据客户需求,进行金刚石切割、打孔、镀金属膜和图形化等服务,提供专业可靠的金刚石热管理解决方案。


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